同轴光源发出的光比其他类型的光源更均匀些，而且对于反光物体检测，更能体现出其优势。同轴光源一般是应用在高反光物体表面划痕等缺陷检测、MARK点定位，激光打标字符，二维码识别、芯片和硅晶片的破损检测、LDE表面缺陷检测、最适合反射率高的镜面状被测物的划痕、文字等检测。同轴光的应用就不一一的详细介绍了，下面就跟着沃德普机器一起来了解同轴光源吧！

同轴光源（漫射同轴灯，金属平面漫反射照明光源）提供了比传统光源更均匀的照明，因此提高了机器视觉的准确性和重现性。

· 均匀照亮平面，有光泽的表面 

· 加强划刻，凹陷，或压印特征

· 在镜面，漫射和/或吸收表面形成对比

· 降低透明外壳或遮盖物的透过率 

· 电子元件检测 

· 基准定位

同轴灯主要用于检测反光程度很厉害的平面物体，比如玻璃。

同轴光源能够凸显物体表面不平整，克服表面反光造成的干扰，主要用于检测物体平整光滑表面的碰伤、划伤、裂纹和异物。

同轴光源可以消除物体表面不平整引起的阴影，从而减少干扰；部分采用分光镜设计，减少光损失，提高成像清晰度，均匀照射物体表面。应用领域:系列光源最适宜用于反射度极高的物体，如金属、玻璃、胶片、晶片等表面的划伤检测，芯片和硅晶片的破损检测，Mark点定位，包装条码识别。